新型显示芯片生产线项目光刻对准工艺方案
目录TOC\o1-4\z\u
一、总则 3
二、工艺目标 5
三、产品范围 7
四、技术路线 11
五、对准原理 14
六、设备选型 17
七、洁净环境要求 18
八、掩膜版管理 23
九、晶圆前处理 25
十、基准标记设计 28
十一、对准流程 35
十二、曝光参数设置 38
十三、对准精度控制 40
十四、量测方法 42
十五、关键工艺窗口 45
十六、异常识别 48
十七、偏差修正 50
十八、缺陷控制 52
十九、批量稳定性 56
二十、良率提升 5
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