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模拟集成电路版图设计与工程实践（微课版）课件 第一章 有源器件制造2.pdf

模拟集成电路版图设计与工程实践（微课版）课件 第一章 有源器件制造2.pdf

    集成电路模拟版图设计

    CMOS工艺流程

    •下面以CMOS反相器为例简单阐述一下CMOS工艺流程：

    1.制作N阱：制作N阱首先需要在P型衬底上生长一层SiO层。SiO均匀的生长在衬底上，

    22

    掩模版（Mask）处于准备阶段，如图1.4.8所示的Mask数据区域为clear。

    图1.4.8氧化层的生长

    CMOS工艺流程

    2.在SiO层上涂上光刻

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