CN119615121A 原子层沉积设备的混气结构、进气装置及原子层沉积方法 （宸微设备科技(苏州)有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119615121A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202411892104.8

(22)申请日2024.12.20

(71)申请人宸微设备科技（苏州）有限公司

地址215299江苏省苏州市吴江区江陵街

道芦荡路228号

(72)发明人张璞刘亚男李靖

(74)专利代理机构上海知锦知识产权代理事务

所(特殊普通合伙)31327

专利代理师何志婧张雪琴

(51)Int.Cl.

C23C16/455(2006.01)

权利要求书2页说明书11页附图9页

(54)发明名称

原子层沉积设