CN119742225A 一种基于可溶性牺牲层的图案化薄膜材料转移方法 （北京科技大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119742225A

(43)申请公布日2025.04.01

(21)申请号202411944219.7

(22)申请日2024.12.27

(71)申请人北京科技大学

地址100083北京市海淀区学院路30号

(72)发明人张跃徐明杰张铮张先坤杨佳佳王玉南尚金森

(74)专利代理机构北京盛询知识产权代理有限

公司11901

专利代理师杨芳

(51)Int.Cl.

H01L21/027(2006.01)

H01L21/683(2006.01)

H10D30/01(2025.01)

权利要求书2页说明书7页附图3页

(54)发明名称

一种基于可溶性牺牲层的图案化薄膜材料

转移方法

(57)摘要

CN119742225A本发明公开了一种基于可溶性牺牲层的图案化薄膜材料转移方法，属于晶体管的构筑工艺技术领域。本发明提供的方法操作简单，利用水溶液作为可溶性牺牲层的刻蚀溶液在将牺牲层刻蚀的同时保证不对最终所需的目标薄膜材料造成破坏，同时，可溶性牺牲层被刻蚀后承载有图案化薄膜材料的有机支撑层自动漂浮到水面，不需要引入额外的人为应力，转移成功率高。本发明可以通过沉积大面积均匀的可溶性牺牲层，为转移规模扩展提供有利的条件。除此之外，本发明配合低温的