CN120065657A 一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备方法与应用 （浙江奥首材料科技有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120065657A

(43)申请公布日2025.05.30

(21)申请号202510361588.1

(22)申请日2025.03.26

(71)申请人浙江奥首材料科技有限公司

地址324012浙江省衢州市杜鹃路36号

(72)发明人彭仁杰刘海林张慧康

(74)专利代理机构大连大工智讯专利代理事务

所(特殊普通合伙)21244

专利代理师崔雪

(51)Int.Cl.

G03F7/42(2006.01)

权利要求书1页说明书6页附图2页

(54)发明名称

一种低腐蚀的碱性光刻胶剥离液及其制备

方法与应用

(5