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《CVD法铜箔衬底上石墨烯薄膜完整度测试技术规范实验报告》.docx

《CVD法铜箔衬底上石墨烯薄膜完整度测试技术规范实验报告》.docx

    化学气相沉积法（CVD）制备的铜箔衬底上石墨烯薄膜完整度测试技术规范

    实验报告

    主要起草单位：

    中国计量科学研究院、国家纳米科学中心

    参与起草单位：

    常州第六元素科技股份有限公司、北京石墨烯研究院

    主要起草人：

    贾志立任玲玲刘忍肖

    参加起草人：

    李鑫张荣花

    1、测量装置

    测量装置为奥林巴斯公司的光学显微镜，型号为：BX51。

    2、测量标准及其他设备

    采用的标准器为微米栅格，技术特性指标

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