半导体芯片制造工专项题库(附答案与解释)
一、单选题(只有一个正确答案)
1.半导体制造中最先完成的工序是?
A.光刻
B.晶圆切割
C.晶圆键合
D.沉积
答案:A
解析:光刻是将掩膜版上的图形转移到硅片表面的关键工序,通常作为薄膜沉积和
蚀刻循环的开始。
2.在光刻工艺中,波长为193nm的ArF准分子激光主用于?
A.深紫外光刻
B.超紫外光刻
C.电子束光刻
D.X射线光刻
答案=A
解析:193nm是光刻机中ArF准分子激光的典型波长,配合浸
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