利用稀硫酸刻蚀提升二氧化钒薄膜可见光透过率的方法.pdf

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(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

氧化钒薄膜可见光透过率的方法摘要本发明公开了一种利用稀硫酸刻蚀提高二氧化钒薄膜可见光透过率的方法采用稀硫酸处理的方式对磁控溅射结合快速退火制备的二氧化钒薄膜进行刻蚀在整个制备过程中利用酸处理的方式将连续的平面二氧化钒薄膜刻蚀成分离的颗粒提高

(10)申请公布号

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