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- 2026-07-06 发布于山西
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN119833384A
(43)申请公布日2025.04.15
(21)申请号202510322103.8
(22)申请日2025.03.19
(71)申请人上海邦芯半导体科技有限公司
地址201304上海市浦东新区中国(上海)
自由贸易试验区临港新片区平霄路
358号7号厂房、9号厂房
(72)发明人沈康王兆祥涂乐义梁洁
王士京桂智谦侯海洋周正
(74)专利代理机构上海汉盛律师事务所31316
专利代理师韩雪松管雨
(51)Int.Cl.
H01J37/32(2006.01)
H01L21/67(2006.01)
权利要求书2页说明书6页附图4页
(54)发明名称
晶圆加工装置和晶圆加工方法
(57)摘要
CN119833384A本发明涉及一种晶圆加工装置及晶圆加工方法,该装置包括:壳体和壳体包裹而成的反应腔;反应腔由过滤装置分隔成上腔体和下腔体;过滤装置包括过滤挡板,过滤挡板设置有1个或多个贯穿过滤挡板的过滤孔;还包括反应速率控制系统,其控制过滤孔的打开和部分关闭,从而调整等离子体中带电粒子通过量和反应速率。该加工方法采用上述加工装置。本发明通过优化等离子体的过滤和控制机制,有效解决了现有技术中离子损伤与加工效率难以兼顾的问
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