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探索高品质金基合金溅射靶材：制备工艺、性能优化与应用拓展

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，材料科学作为推动各领域进步的关键力量，始终处于创新的前沿。其中，溅射靶材作为制备薄膜材料的核心原材料，在众多高科技产业中发挥着举足轻重的作用。金基合金溅射靶材，凭借其卓越的物理化学性能，如良好的导电性、出色的抗氧化性和优异的耐腐蚀性等，在半导体、光电子、航空航天等领域占据着不可或缺的地位。

在半导体领域，随着集成电路技术朝着更小尺寸、更高性能的方向不断发展，对金属布线材料的要求愈发严苛。金基合金溅射靶材制备的金属薄膜，因其具备低电阻、高稳定性以及与半导体材料良好的兼容性，成为实