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气相沉积环境监控规范

气相沉积环境监控规范

一、环境参数监测体系与实时监控技术在气相沉积工艺场所中的实施规范

在气相沉积（含化学气相沉积CVD、物理气相沉积PVD、原子层沉积ALD等）生产或实验场所，建立完备的环境参数监测体系是保证薄膜质量、工艺重复性及人员设备安全的基础。环境监控不应局限于洁净室宏观参数，还必须覆盖工艺腔体微环境及辅助系统运行状态，形成厂房级—工艺区—设备腔体三级联动监控架构。（1）温度与相对湿度及露点监控的深度实施。气相沉积区域所在洁净室环境温度应控制在22℃±2℃范围内，高精度工艺区可收紧至22.5℃±0.5℃或23.0℃±0.2℃，每小时波动量不得超过±0.5℃，以防