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PVD真空镀膜生产线操作技师考试试卷及答案

填空题（共10题，每题1分）

1.PVD的中文全称是______。

2.常见PVD镀膜方法包括蒸发镀膜、溅射镀膜和______。

3.真空度常用单位有帕斯卡（Pa）和______。

4.PVD生产线中产生真空环境的核心设备是______。

5.溅射镀膜常用靶材类型有金属靶、合金靶和______。

6.基板预热主要目的是去除表面______。

7.反应溅射常用反应气体有氧气、氮气和______。

8.膜层厚度测量方法有石英晶体振荡法和______。

9.PVD操作需佩戴防护眼镜和______。

10.真空室泄漏检测常用______法。

单项选择题（共10题，每题2分）

1.溅射镀膜惰性气体保护常用（）

A.氧气B.氩气C.氮气D.氢气

2.离子轰击基板主要作用是（）

A.提高附着力B.降低温度C.增加厚度D.减少靶耗

3.粗抽真空设备是（）

A.分子泵B.罗茨泵C.扩散泵D.机械泵

4.制备TiN涂层用靶材（）

A.铝靶B.钛靶C.铜靶D.银靶

5.基板偏压作用是（）

A.加速离子B.控制溅射速率C.调节真空度D.冷却靶材

6.真空室镀膜前预处理是（）

A.加热B.清洗C.充气D.放电

7.装饰性镀膜是（）

A.TiNB.SiO?C.Al?O?D.Si?N?

8.靶材消耗主要区域是（）

A.中心B.边缘C.刻蚀区D.冷却区

9.附着力检测