半导体器件物理（第2版） 第4章 半导体表面特性.pptx

;Si-SiO2系统及其特性;;;;;;Si-SiO2系统及其特性;Si-SiO2系统及其特性;;;Si-SiO2系统及其特性;Si-SiO2系统及其特性;;;;Si-SiO2系统及其特性;;;;;Si-SiO2系统及其特性;;Si-SiO2系统及其特性;;MOS结构概述;;;;MOS结构概述;;半导体制程中的清洗与钝化;半导体制程中的清洗与钝化;;;;;;;;;;;;最常见的就是氧元素，从而形成一层天然的二氧化硅（SiO2）膜层，一般在十几埃量级，这也是自然界几乎不可能存在单质硅形态的直接原因。

硅以化合物形态存在的另一种最常见的物质就是大家所熟知的硅酸盐。;;理想的半导体表面;;;;表