CN119535919A 一种微纳器件多层套刻对准方法 (三河建华高科有限责任公司).pdfVIP

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  • 2026-07-21 发布于重庆
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CN119535919A 一种微纳器件多层套刻对准方法 (三河建华高科有限责任公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119535919A

(43)申请公布日2025.02.28

(21)申请号202411752701.0

(22)申请日2024.12.02

(71)申请人三河建华高科有限责任公司

地址065201河北省廊坊市三河市燕郊开

发区工业大街北侧、凌仁羊绒公司西

(72)发明人李扬巨莎娜李康平刘福山

朱朋旭

(74)专利代理机构北京精翰专利代理有限公司

11921

专利代理师刘晓晖

(51)Int.Cl.

G03F9/00(2006.01)

G03F1/42(2012.01)

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