CN120113038A 具有交替的非等离子体和等离子体蚀刻工艺的蚀刻方法 （乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120113038A

(43)申请公布日2025.06.06

(21)申请号202380075054.1

(22)申请日2023.10.26

(30)优先权数据

17/974,2462022.10.26US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.04.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0360232023.10.26

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/091612EN2024.05.02

(71)申请人乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司

地址法国巴黎

(72)发明人郭翔宇南森·斯塔福德

(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理

有限公司11205

专利代理师王蕊马爽

(51)Int.Cl.

H01L21/3065(2006.01)

权利要求书2页说明书22页附图4页

(54)发明名称

具有交替的非等离子体和等离子体蚀刻工

艺的蚀刻方法

(57)摘要

CN120113038A一种用于在衬底中形成孔图案的方法，该衬底包括设置在其上的膜和设置在该膜上的图案化掩模层，该方法包括1)在非等离子体条件下将该衬底暴露于钝化分子的蒸气一定时间段以在该图案化掩模层上形成表面保护层，2)将该衬底暴露于等离子体