半导体设备操作高级考核题及答案
一、单选题
1.下列哪项属于半导体制造工艺中的“光刻”环节?(1分)
分A导电性B热膨胀系数C电阻率D以上都是答案D解析半导体材料具有导电性热膨胀系数和电阻率等特性是其基本属性之一下列哪项是半导体器件的核心结构分APN结B二极管C三极管D电容答案A解析PN结是半导体器件的核心结构用于实现电子的单向导电性下列哪
A.气相外延法
B.光刻胶涂布
C.金属沉积
D.热处理
【答案】B
【解析】光刻是半导体制造中用于
半导体设备操作高级考核题及答案
一、单选题
1.下列哪项属于半导体制造工艺中的“光刻”环节?(1分)
分A导电性B热膨胀系数C电阻率D以上都是答案D解析半导体材料具有导电性热膨胀系数和电阻率等特性是其基本属性之一下列哪项是半导体器件的核心结构分APN结B二极管C三极管D电容答案A解析PN结是半导体器件的核心结构用于实现电子的单向导电性下列哪
A.气相外延法
B.光刻胶涂布
C.金属沉积
D.热处理
【答案】B
【解析】光刻是半导体制造中用于
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