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CN119300450A 半导体器件及其制作方法 （武汉新芯集成电路股份有限公司）.pdfVIP

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  • 2026-08-08 发布于重庆
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CN119300450A 半导体器件及其制作方法 （武汉新芯集成电路股份有限公司）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119300450A

    (43)申请公布日2025.01.10

    (21)申请号202411708573.X

    (22)申请日2024.11.26

    (71)申请人武汉新芯集成电路股份有限公司

    地址430205湖北省武汉市东湖开发区高

    新四路18号

    (72)发明人蔡建祥王亢

    (74)专利代理机构上海思微知识产权代理事务

    所(普通合伙)31237

    专利代理师曹廷廷

    (51)Int.Cl.

    H10D64/27(2025.01)

    H10D30/01(2025.01)

    H10D30/60(2025.01)

    权利

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