GBT 45767-2025 氮化硅陶瓷基片标准立项发展报告.docx

氮化硅陶瓷基片标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:SiliconNitrideCeramicSubstrates

摘要

氮化硅陶瓷基片凭借其优异的力学性能、高热导率、出色的抗热震性和良好的电绝缘性，已成为新一代功率电子器件、新能源汽车、轨道交通及航空航天领域不可或缺的关键基础材料。随着碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等第三代半导体技术的迅猛发展，产业界对高性能陶瓷基板的需求日益迫切，亟需统一的国家标准予以规范和引导。本标准（GB/T45767-2025）《氮化硅陶瓷基片》由国家标准化管理机构于2025年6月30日批准发布，将于2026年1月1日正式实施。该标准是我国先进陶瓷材料标准体系建设的重要里程碑，填补了氮化硅陶瓷基片领域国家标准层面的空白。本报告全面阐述了该标准的立项背景、编制依据、主要技术内容及其预期经济社会效益，并对标准实施后的推广应用前景进行了展望。

关键词：氮化硅；陶瓷基片；功率器件；热导率；标准制定；先进陶瓷；半导体封装

Abstract

Siliconnitrideceramicsubstrates,withtheirexcellentmechanicalproperties,highthermalconductivity,outstandingthermalshockr