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氧化锌薄膜的制备及场发射性能研究

摘要

本研究旨在探究不同制备方法对氧化锌薄膜结构与场发射性能的影响。通过化学气相沉积法、脉冲激光沉积法、磁控溅射法制备氧化锌薄膜，并对其形貌、晶体结构进行表征，系统研究了薄膜的场发射开启电场、发射电流密度等性能参数。研究结果表明，脉冲激光沉积法制备的氧化锌薄膜具有更优的场发射性能，为氧化锌薄膜在场发射器件领域的应用提供了理论与实验依据。

关键词

氧化锌薄膜；制备方法；场发射性能；化学气相沉积；脉冲激光沉积；磁控溅射

一、引言

氧化锌（ZnO）作为一种宽禁带半导体材料，具有优异的物理化学性质，如高电子迁移率、良好的化学稳定性和生物相容性等。其独特的纳米结构和表面特性，使其在光电器件、传感器、场发射器件等领域展现出巨大的应用潜力。在场发射器件中，场发射性能是衡量材料应用价值的关键指标，而薄膜的制备方法直接影响其微观结构和性能。因此，深入研究氧化锌薄膜的制备工艺及其场发射性能，对于推动氧化锌在场发射器件领域的应用具有重要意义。

二、实验部分

（一）实验材料

实验选用高纯度锌靶（纯度≥99.99%）、氧气（纯度≥99.999%）作为主要原材料，基底为石英玻璃片和硅片。实验前，将石英玻璃片和硅片依次放入丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗15分钟，以去除表面杂质，干燥后备用。

（二）制备方法

化学气相沉积法（CVD）

采用水平管式炉作为沉积设备，将清洗后的基底