冶金法提纯多晶硅中石墨坩埚涂层的关键技术与性能优化研究.docxVIP

冶金法提纯多晶硅中石墨坩埚涂层的关键技术与性能优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在全球能源结构加速向清洁能源转型的大背景下，太阳能作为一种清洁、可再生的能源，受到了广泛关注与大力发展。多晶硅作为太阳能产业的核心原材料，其质量与成本对太阳能产业的发展起着决定性作用。目前，多晶硅太阳能电池在光伏市场中占据着主导地位，已超过单晶硅成为制备太阳能电池的主要材料，这主要得益于铸造多晶硅相对较低的成本以及不断提升的性能。

冶金法作为制备太阳能级多晶硅的一种新方法，具有成本低、污染小的显著优点，在多晶硅生产领域得到了越来越广泛的应用。在冶金法提纯多晶硅的过程中，坩埚是必不可少的关键工具。工业生产中常用的坩埚主要有石英坩埚和石墨坩埚。石英坩埚在高温环境下存在析晶、软化等问题，导致其使用寿命较短，在太阳能多晶硅生产过程中损耗严重，这无疑大幅增加了生产成本。而石墨坩埚虽然不存在高温析晶、软化等缺点，且成本相对较低，但在高温熔炼多晶硅时，会与熔硅以及熔硅炉中的硅蒸汽发生反应生成SiC，这不仅会导致坩埚破裂，还会使C元素进入熔硅，从而污染熔硅，降低多晶硅的质量，对多晶硅的电学性能如电阻率和少子寿命等产生负面影响。

因此，研发一种性能优良的石墨坩埚涂层，使其能够有效阻止石墨与硅的反应，防止石墨基底杂质对熔硅的污染，并确保凝固后的硅块能够顺利脱模，对于提高多晶硅质量、降低生产成本具有重要