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OLED蒸镀工程师考试试卷及答案

OLED蒸镀工程师考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分）

1.OLED蒸镀常用的有机材料蒸镀源类型有______和______。

2.蒸镀过程中控制膜厚均匀性的关键参数之一是______。

3.OLED器件中空穴传输层的英文缩写是______。

4.蒸镀真空度通常需要达到______量级（单位：Pa）。

5.蒸镀速率的常用单位是______。

6.荫罩蒸镀中防止掩膜变形的方法包括______。

7.OLED蒸镀中常用的阴极材料是______。

8.蒸镀时基板温度一般控制在______范围（单位：℃）。

9.有机材料蒸镀时避免分解的关键是控制______。

10.OLED器件封装的目的是防止______和______侵入。

二、单项选择题（共10题，每题2分）

1.以下哪种不是OLED蒸镀常用的蒸镀源类型？（）

A.点源B.线源C.面源D.喷雾源

2.蒸镀真空度不足会导致（）

A.膜厚均匀性变好B.材料分解加剧C.器件寿命降低D.蒸镀速率加快

3.HTL的主要作用是（）

A.传输电子B.传输空穴C.发光D.阻挡电子

4.荫罩蒸镀中掩膜与基板的对准误差要求通常在（）以内？

A.1μmB.10μmC.100μmD.1mm

5.以下哪种材料常用于OLED的阳极？（）

A.AlB.AgC.ITOD.Mg

6.蒸镀速率过高会导致（）

A.膜层结晶度