CN119506807A 一种提高磁控溅射镀膜中靶材利用率的监控清洗方法 (山西中来光能电池科技有限公司).pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约8.36千字
  • 约 8页
  • 2026-08-18 发布于重庆
  • 举报

CN119506807A 一种提高磁控溅射镀膜中靶材利用率的监控清洗方法 (山西中来光能电池科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119506807A

(43)申请公布日2025.02.25

(21)申请号202411669855.3

(22)申请日2024.11.21

(71)申请人山西中来光能电池科技有限公司

地址030000山西省太原市山西综改示范

区太原唐槐园区唐槐路77号科技创新

孵化基地5号楼4层424室

(72)发明人张耕刘旭东温建华高步瑾

熊大明林建伟

(74)专利代理机构北京同辉知识产权代理事务

所(普通合伙)11357

专利代理师邢彬

(51)Int.Cl.

C23C14/35(2006.01)

C23C14/54(2006.01)

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档