半导体器件习题解析与参考答案.pdf

第二章

1一个硅p-n扩散结在p型一侧为线性缓变结,a=1019cm-4,n型一侧为均匀

掺杂,杂质浓度为3×1014cm-3,在零偏压下p型一侧的耗尽层宽度为0.8μm,

SVTAgmnCZLoxVGSVTS饱和速度模型下IDsatZCoxVvSGSVTAgCZvmSSox

求零偏压下的总耗尽层宽度、内建电势和最大电场强度。

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