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光学镀膜工程师考试试卷及答案

光学镀膜工程师考试试卷

一、填空题（共10题，每题1分）

1.光学镀膜中常用的物理气相沉积方法包括真空蒸镀、______和离子镀。

2.增透膜的作用是减少光学表面的______，提高透过率。

3.薄膜厚度的常用单位是______。

4.光学薄膜的光学常数通常指折射率n和______。

5.真空镀膜时，真空度一般需要达到______量级以上。

6.多层膜系中，相邻膜层的折射率通常采用______交替设计以提高性能。

7.薄膜的附着力主要取决于膜层与基底之间的______作用。

8.常用的光学镀膜材料中，高折射率材料有TiO?，低折射率材料有______。

9.薄膜干涉分为等厚干涉和______干涉两种类型。

10.膜系设计中常用的软件工具是______。

二、单项选择题（共10题，每题2分）

1.下列哪种方法不属于物理气相沉积（PVD）？

A.蒸镀B.溅射C.化学气相沉积（CVD）D.离子镀

2.增透膜的最小反射率出现在膜厚为多少时（λ为入射光波长）？

A.λ/2B.λ/4C.λ/8D.λ/16

3.下列哪种材料是常用的高折射率镀膜材料？

A.SiO?B.MgF?C.TiO?D.Al?O?

4.薄膜附着力测试中常用的方法是？

A.划痕法B.拉伸法C.弯曲法D.以上都是

5.下列哪种因素会影响薄膜的均匀性？

A.基底与蒸发源的距离B.蒸发速率C.真空度D.