光学膜涂布工岗位工艺考试试卷及答案.docVIP

光学膜涂布工岗位工艺考试试卷及答案

光学膜涂布工岗位工艺考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分，共10分）

1.光学膜涂布常用的刮刀类型有____和逗号刮刀。

2.涂布液的固含量直接影响最终膜层的____。

3.基材张力控制不当会导致涂布时出现____现象。

4.干燥工序中，常用的加热方式有热风干燥和____。

5.光学膜涂布过程中，____是衡量涂布精度的重要指标之一。

6.涂布前，基材表面需进行____处理以提高附着力。

7.微凹涂布辊的____决定了涂布量的大小。

8.涂布液中的溶剂挥发速度过快易导致膜层出现____缺陷。

9.光学膜的____性能是其核心指标之一，直接影响产品应用。

10.涂布设备的____系统需定期校准以保证涂布均匀性。

二、单项选择题（共10题，每题2分，共20分）

1.下列哪种涂布方式适用于高粘度涂布液？（）

A.微凹涂布B.逗号刮刀涂布C.气刀涂布D.浸涂

2.涂布厚度过厚可能是因为（）

A.涂布速度过快B.刮刀压力过大C.涂布液固含量过高D.基材张力过大

3.干燥过程中，若温度过高不会导致（）

A.膜层起泡B.膜层脆化C.溶剂残留增加D.膜收缩变形

4.下列哪项不是基材预处理的目的？（）

A.去除表面油污B.提高表面粗糙度C.增加膜层附着力D.降低涂布液粘度

5.微凹涂布中，涂布辊的转速与涂布量的关系是（）

A.转速越快，涂布量越大B.转速