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光伏刻蚀操作工岗位作业考试试卷及答案

光伏刻蚀操作工岗位作业考试试卷及答案

填空题（共10题，每题1分）

1.光伏刻蚀常用的干法刻蚀设备类型是______。

2.刻蚀硅片常用的气体组合包括SF6和______。

3.硅片刻蚀前清洗常用的酸性试剂是______。

4.刻蚀速率的常用单位是______（写一种即可）。

5.刻蚀后检测硅片刻蚀深度的仪器是______。

6.反应离子刻蚀的英文缩写是______。

7.刻蚀过程中控制反应室压力的设备是______。

8.过刻蚀会导致硅片______（填一种不良影响）。

9.硅片摆放方式影响刻蚀的______。

10.产生等离子体的装置是______。

填空题答案

1.反应离子刻蚀机（或RIE）

2.O2（氧气）

3.HF（氢氟酸）

4.nm/min（或?/min）

5.台阶仪（或轮廓仪）

6.RIE

7.真空泵（或压力控制器）

8.图形变形（或硅片损伤）

9.均匀性

10.射频电源

单项选择题（共10题，每题2分）

1.以下哪种气体常用于硅片干法刻蚀？（）

A.N2B.SF6C.CO2D.H2

2.反应室压力过高会导致（）

A.刻蚀速率加快B.均匀性下降C.等离子体密度增加D.表面光滑

3.HF泄漏应使用哪种物质中和？（）

A.水B.酒精C.石灰水D.盐酸

4.反应离子刻蚀的主要优点是（）

A.速率快B.方向性好C.成本低D.操作简单

5.