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宽带隙半导体材料场发射特性的多维度探究与应用展望

一、引言

1.1研究背景与意义

显示器作为人机交互的关键界面，在信息社会中扮演着不可或缺的角色。随着科技的飞速发展，人们对显示器的性能要求日益提高，如更高的分辨率、更快的响应速度、更低的能耗以及更轻薄的结构等。场发射显示器（FED）作为新一代极具发展潜力的显示器，因其独特的工作原理和显著的优势，受到了广泛的关注和深入的研究。

FED基于场发射阴极，无需电子束扫描，能够实现结构的薄型化，具备低能耗、高清晰度和高稳定性的大屏幕平面显示特性。与目前广泛应用的热阴极射线管（CRT）相比，FED克服了CRT不能与集成电路制造技术兼容、难以小型化、工作电压高和能耗大等缺点，被认为是最有可能取代CRT的新一代显示技术。此外，与液晶显示器（LCD）和有机发光二极管显示器（OLED）等其他新型显示技术相比，FED在多颜色还原度、响应速度和灵敏度等方面也具有明显的优势，有望在医疗、军事和广告等领域得到更广泛的应用。

然而，尽管场发射平板显示技术已取得了一定的进展，但距离大规模的应用仍存在较大差距。其中，关键的制约因素之一是尚未找到一种具有理想发射特性的场发射阴极材料。现有的场发射阴极材料在性能、制备及加工工艺上还存在诸多问题亟待解决，如发射电流密度低、稳定性差、制备成本高以及工艺复杂等。因此，近年来场发射阴极材料的研究成为了材料研究领