CN119194414A 一种用于高深宽比结构器件的原子层沉积镀膜方法及系统 （南京原磊纳米材料有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119194414A

(43)申请公布日2024.12.27

(21)申请号202411576413.4

(22)申请日2024.11.06

(71)申请人南京原磊纳米材料有限公司

地址210000江苏省南京市江北新区浦云

路266号青云大厦B栋22层

(72)发明人郑锦时秋伟张博

(74)专利代理机构北京弘权知识产权代理有限

公司11363

专利代理师逯长明朱炎

(51)Int.Cl.

C23C16/455(2006.01)

C23C16/52(2006.01)

H01L21/762(2006.01)