CN119372611A 一种液相磁控溅射源、溅射设备及镀膜方法 (江苏先导微电子科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-09-10 发布于重庆
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CN119372611A 一种液相磁控溅射源、溅射设备及镀膜方法 (江苏先导微电子科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119372611A

(43)申请公布日2025.01.28

(21)申请号202411592805.X

(22)申请日2024.11.08

(71)申请人江苏先导微电子科技有限公司

地址221116江苏省徐州市徐州高新技术

产业开发区先导南路2号

(72)发明人林循恩牛二辉牛晓琳贺凌晨

陈勇周宇曹欢欢夏志钢

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限

公司11227

专利代理师翁仪

(51)Int.Cl.

C23C14/35(2006.01)

权利要求书1页说明书6页附图2页

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