《xb-t 525-2026高纯金属镱靶材》培训课件.pptxVIP

《xb-t525-2026高纯金属镱靶材》培训

目录

02

高纯金属镱基础特性

01

标准概述与背景

03

靶材生产工艺流程

04

标准技术要求解析

05

检验与测试方法

06

检验规则与包装储运

标准概述与背景

01

标准制定目的与意义

01.

规范产业升级

统一高纯金属镱靶材的生产与质量控制标准，解决因标准缺失导致的产品质量参差不齐问题，推动稀土新材料产业向高端化迈进。

02.

保障下游应用

为半导体、光通信等尖端领域提供成分与性能稳定的基础材料，降低因靶材杂质超标导致的薄膜缺陷风险，保障终端器件可靠性。

03.

提升国际竞争力

通过建立与国际接轨的高纯度检测与评价体系，增强国产高纯金属镱靶材在国际市场的核心竞争力，打破高端靶材依赖进口的局面。

适用范围与规范对象

产品界定

明确适用于物理气相沉积用高纯金属镱靶材，涵盖熔铸及粉末冶金工艺制备的各类规格靶材产品。

规范对象主攻99.9%至99.99%及以上纯度级别的金属镱靶材，严格界定稀土杂质与非稀土杂质元素含量。

适用于圆柱形、平面形及管状等不同几何形态的靶材，规定其尺寸公差、表面粗糙度及内部致密度等物理指标。

纯度要求

形态分类

规范性引用文件说明

包装储运标准

引用危险货物包装标志及一般货物运输包装标准，保障高纯镱靶材在流转过程中免受环境侵蚀与物理损伤。

基础规范衔接

引用稀土金属化学分析方法等国家标准，确保杂质元素的化学