陶瓷釉料喷涂轨迹优化与厚度均匀性研究.pdfVIP

团队#2577

队号：2577

所选问题：B

2017

APMCM

概要表

在陶瓷生产过程中，釉料喷涂工艺需要保持其厚度均匀。基于这一背景，

本文研究了喷枪轨迹规划以实现该目标。研究表明，当喷枪喷涂不同表面时，

形成的涂层厚度分布函数不同。因此我们尝试找出喷枪轨迹的合适区间以

保持厚度均匀，并得出以下结论：

1)对于给定的P、P和h，喷枪的喷涂方向始终保持不变。通过沿椭圆长轴和

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短轴方向的横截面累积密度函数，我们获得了平面中的喷涂累积情况，其中yx

=

Z(x，y)

服从函数：Z(u，v)dudv。并得出每个方向的区间：d1107.9115mm，

d41.2128mm。

2

2)在曲面上研究喷枪轨迹是不合适的。我们发现主要差异在于喷射距离

2

的变化。因此，我们建立