CN119465333A 一种电沉积法制备具有自修复性能的金属有机框架膜层的方法 (桂林理工大学).pdfVIP

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  • 2026-09-15 发布于重庆
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CN119465333A 一种电沉积法制备具有自修复性能的金属有机框架膜层的方法 (桂林理工大学).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119465333A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202411553713.0

(22)申请日2024.11.03

(71)申请人桂林理工大学

地址541004广西壮族自治区桂林市七星

区建干路12号

(72)发明人温玉清刘涵钰张宇赵蕊

岳浩罗卫锋尚伟

(51)Int.Cl.

C25D9/02(2006.01)

C25D11/10(2006.01)

权利要求书1页说明书6页附图3页

(54)发明名称

一种电沉积法制备具有自修复性能的金属

有机框架膜层的方法

(57)摘要

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