G.BT 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材293.docxVIP

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中华人民共和国国家标准

GB/T29658—2013

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

High-puritysputteringaluminiumandaluminium

alloytargetusedinelectronicfilm

2013-09-06发布2014-05-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

中国国家标准化管理委员会发布

GB/T29658—2013

前言

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。

本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。

本标准负责起草单位：有研亿金新材料股份有限公司。

本标准参加起草单位：宁波江丰电子材料有限公司、新疆众和股份有限公司。

本标准主要起草人：万小勇、罗俊锋、廖赞、尚再艳、杨华、朱晓光、孙秀霖、何金江、熊晓东、王兴权、王学泽、钱红兵、喻洁、刘杰、洪涛、努力古、宋玉萍。

GB/T29658—2013

1

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

1范围

本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检