CN119384033A 半导体器件的形成方法 (上海华虹宏力半导体制造有限公司).pdfVIP

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  • 2026-09-25 发布于重庆
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CN119384033A 半导体器件的形成方法 (上海华虹宏力半导体制造有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119384033A

(43)申请公布日2025.01.28

(21)申请号202411514533.1

(22)申请日2024.10.28

(71)申请人上海华虹宏力半导体制造有限公司

地

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