CN119400753A 改善通孔底部铜互连金属损伤的方法 （上海华力集成电路制造有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119400753A

(43)申请公布日2025.02.07

(21)申请号202411547744.5

(22)申请日2024.10.31

(71)申请人上海华力集成电路制造有限公司

地址201203上海市浦东新区康桥东路298

号1幢1060室

(72)发明人侯文博刘山许涛

(74)专利代理机构上海浦一知识产权代理有限

公司31211

专利代理师刘昌荣

(51)Int.Cl.

H01L21/768(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图5页

(54)发明名称

改善通孔底部铜互连金属损伤的方法