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- 2026-09-28 发布于北京
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跨国半导体企业“关键技术图纸”跨国云端同步遭遇境外第
三方技术中介窃取的间接侵权归责——基于英国高等法院202
4年商业秘密侵权诉讼的比较法考察
摘要
随着全球半导体产业链和分布式云端协同研发的爆发式增
长,跨国半导体企业关键技术图纸跨国云端同步遭遇境外第三
方技术中介窃取的法律风险日益凸显,这直接冲击了传统以实
际接触和直接侵权为主导的商业秘密司法保护机制。本文采用
比较法考察与教义学分析方法,深入剖析英国高等法院二零二
四年商业秘密侵权诉讼裁决中关于间接侵权归责的核心标准,
并结合我国沿海半导体产业集群跨境技术流动样本实施逐步回
归路径解构。实证结果表明,在引入默示信赖知悉因子与属地
公共政策强行法预测变量后,模型对境外技术中介间接侵权主
观过错判定正确率的解释优度由百分之十二点四瞬间攀升至百
分之五零点九。路径系数的逆转生动证明,形式主义的外观抗
辩或纯粹的技术中立免责声明在实质控制力变异面前彻底崩溃
。本文不仅丰富了第三流派关于经济实质、实质清偿贡献与公
私契约主权边界的跨国商事学理阐释,也为后续分类分层次构
建我国跨境大宗核心知识产权司法穿透受偿与综合引导评价指
标体系提供了精准的行动导向。
关键词:半导体技术图纸;云端同步;技术中介;间接侵
权;主观过错
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