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CN119517742A 一种光刻胶形貌修饰的刻蚀方法、装置及半导体器件 （西湖大学）.pdfVIP

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  • 2026-10-09 发布于重庆
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CN119517742A 一种光刻胶形貌修饰的刻蚀方法、装置及半导体器件 （西湖大学）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119517742A

    (43)申请公布日2025.02.25

    (21)申请号202411442516.1

    (22)申请日2024.10.16

    (71)申请人西湖大学

    地址310024浙江省杭州市西湖区转塘街

    道石龙山街18号

    (72)发明人李冉冉汪康王云生张公开

    李西军

    (74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限

    公司44202

    专利代理师戴莉

    (51)Int.Cl.

    H01L21/311(2006.01)

    H01L21/67(2006.01)

    权利要求书2页说明书14页附

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