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SEMIF63-2024中文版：半导体工艺用超纯水标准指南

重要说明：SEMI官方原版英文名称：SEMIF63-1224GuideforUltrapureWaterUsedinSemiconductorProcessing（行业简称SEMIF63-2024）。SEMI标准为付费版权文档，无官方中文版。本文为工程编译版本，可直接用于新建/改造晶圆厂UPW系统技术协议、设计规范、化验SOP、来料验收文件。

配套参考标准：SEMIF61（超纯水系统设计运行指南）、SEMIF57（超纯水高分子管材组件规范）、SEMIF75（超纯水质量监控指南）。

适用场景：≤32nm及以下先进逻辑、DRAM、NAND闪存12英寸晶圆前道湿法工艺，同时包含热超纯水HUPW。

第1章范围

1.1本指南规定半导体制造湿法工艺（晶圆清洗、冲洗、化学药液稀释等）超纯水（UPW）的水质指标、取样检测、系统污染控制、在线监测、运维管控要求。

1.2本标准适用于超纯水制备系统、循环输送管网、终端使用点POU（PointofUse）。水质判定以POU取样结果作为验收依据。

1.3本标准提供多档分级指标，按器件工艺节点分为：成熟制程、先进制程、极致先进制程三档，工厂可根据产品良率需求与供需双方协议选用。

1.4本指南仅为推荐性技术指南，不替代国家法律法规，可作为项目技术合同附件。