SEMI F47-24 半导体工艺设备电压暂降抗扰度规范(中文版详细解读).docxVIP

  • 1
  • 0
  • 约3.57千字
  • 约 8页
  • 2026-10-16 发布于广东
  • 举报

SEMI F47-24 半导体工艺设备电压暂降抗扰度规范(中文版详细解读).docx

SEMIF47-24半导体工艺设备电压暂降抗扰度规范(中文版详细解读)

版权声明:SEMI原版英文标准为付费版权文档,本文为SEMIF47-24核心内容编译解读稿,仅用于工厂内审、设备采购技术协议、电源系统培训、设备供应商技术评审;客户正式审核、取证、招投标时,必须采购SEMI官方原版英文正本。

配套相关标准:IEC61000-4-34(电压暂降测试基础标准)、SEMIS2(设备EHS)、SEMIE10(设备RAM可靠性);本标准属于电能质量抗扰类规范,不是安全标准。

前言

SEMIF47-24全称:SpecificationforSemiconductorProcessingEquipmentVoltageSagImmunity,是全球晶圆厂、先进封装、功率半导体产线通用的设备电压暂降抗扰度最低要求规范。

半导体制造工艺(刻蚀、PVD/CVD薄膜、光刻、离子注入、CMP清洗等)属于长时间连续精密制程,电网发生短时电压暂降(电压跌落,不是完全停电),经常不会触发总电源跳闸,但极易造成设备电源掉压、等离子熄灭、真空中断、伺服停机、配方中断,导致晶圆报废、腔室污染、巨额停产损失。

SEMIF47定义设备必须耐受的电压跌落深度+持续时间曲线(F47耐受曲线),规定设备设计要求、采购技术条款、实验室测试方法、合格判据、测试报告内容。

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档