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2026半导体工艺技师考试题及答案.docVIP

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  • 2026-10-20 发布于广东
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2026半导体工艺技师考试题及答案.doc

    2026半导体工艺技师考试题及答案

    一、单项选择题（每题2分，共10题）

    1.光刻工艺中常用的光源是（）

    A.红外线B.紫外线C.激光D.微波

    2.半导体材料硅的原子序数是（）

    A.12B.13C.14D.15

    3.离子注入工艺的主要目的是（）

    A.去除杂质B.改变半导体导电类型C.增加表面平整度D.提高硬度

    4.化学气相沉积（CVD）主要用于（）

    A.光刻B.刻蚀C.薄膜生长D.清洗

    5.以下哪种气体常用于刻蚀工艺（）

    A.氧气B.氮气C.氯气D.氢

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