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半导体原料制备工专项题库答案与解释
一、单选题（只有一个正确答案）
1.在多晶硅的生产过程中，尾气处理环节中常用的中和反应塔内的主要反应是？
A.HCl+SiHCl3=SiCl4+H2
B.HCl+Si=SiCl4
C.HCl+H2=H2
D.SiCl4+H2=Si+2HCl
答案：D
解析：中和反应塔主要用于吸收氢化尾气中的四氯化硅（SiCl4），将其与液态氯气或氢气反应还原生成多晶硅，同时生成氯化氢（HCl）。
2.半导体级多晶硅的杂质控制标准中，硼（B）和磷（P）属于？
A.主流杂质
B
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