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- 2026-11-05 发布于北京
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颗粒硅总金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法标准立项发展报告
StandardizationDevelopmentReport:DeterminationofTotalMetalImpurityContentinGranularSilicon—InductivelyCoupledPlasmaMassSpectrometryMethod
摘要
随着光伏产业和半导体产业的快速发展,颗粒硅作为一种新型多晶硅材料,因其流动性好、填充性强、熔化速度快等优势,在直拉单晶和铸锭多晶领域得到日益广泛的应用。颗粒硅中金属杂质含量直接影响下游硅片品质和电池转换效率,建立准确、灵敏、高效的检测方法标准对保障产品质量和促进贸易流通具有重要意义。YS/T1755-2025《颗粒硅总金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由全国有色金属标准化技术委员会归口管理,规定了采用电感耦合等离子体质谱法测定颗粒硅中总金属杂质含量的方法,适用于颗粒硅产品中痕量金属杂质的定量分析。本标准于2025年发布,将于2025年11月1日正式实施。本报告系统阐述了该标准的立项背景、编制过程、技术内容、方法验证及应用前景,分析了标准实施对完善有色金属标准体系、支撑光伏材料质量提升和促进产业高质量发展的积极作用,并对后续标准推广实施和体系优化提出建议。
关键词:颗粒硅;金属杂质;电感耦合
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