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高纯金属靶材2.0时代：从传统溅射到原子层沉积的技术跃迁.docx

高纯金属靶材2.0时代：从传统溅射到原子层沉积的技术跃迁.docx

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    高纯金属靶材2.0时代：从传统溅射到原子层沉积的技术跃迁

    TOC\o1-3\h\z\u29高纯金属靶材2.0时代：从传统溅射到原子层沉积的技术跃迁 3

    1640一、技术演进背景与行业痛点 3

    291811.传统物理气相沉积（PVD）技术的局限性分析 3

    297762.先进制程下对薄膜均匀性与致密性的新需求 4

    7383二、原子层沉积（ALD）技术原理综述 6

    227051.ALD自限制表面反应机制详解 6

    309812.与传统溅射工艺在成膜机理上的本质区别 8

    32722三、高纯金属靶材的配方革新 10

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