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2026年秋国开电大知识产权法第四次形考任务答案.docxVIP

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  • 2026-11-08 发布于湖北
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2026年秋国开电大知识产权法第四次形考任务答案.docx

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    2026年秋国开电大知识产权法第四次形考任务答案

    一、单项选择题（每小题3分，共30分）

    1.根据各国立法及有关国际条约的规定，集成电路布图设计要受法律保护必须具有（）。

    A.新颖性

    B.实用性

    C.独创性

    D.专用性

    我的选择答案：C

    2.我国对集成电路布图设计专有权的保护期限是（）。

    A.5年

    B.10年

    C.15年

    D.20年

    我的选择答案：B

    3.通过第三人窃取权利人的商业秘密并加以公开或使用是对该商业秘密的（）。

    A.直接侵权

    B.间接侵权

    C.双重侵权

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