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显示用黑色矩阵光刻胶测试方法第3部分：工艺性能标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:TestMethodsforBlackMatrixPhotoresistsforDisplayApplications–Part3:ProcessPerformance

摘要

随着新型显示技术向高分辨率、高亮度、低功耗方向快速发展，黑色矩阵光刻胶作为显示面板关键材料，其工艺性能的精准评价成为产业链协同创新的核心环节。当前，国内显示用黑色矩阵光刻胶测试方法标准体系尚不完善，尤其缺乏针对工艺性能的系统性测试规范，制约了材料研发迭代与面板制造良率提升。本标准（SJ/T12261.3-2026）作为系列标准的第3部分，聚焦黑色矩阵光刻胶的工艺性能测试，拟规定包括涂布性能、曝光显影特性、热固化行为、附着性及耐化学性等关键工艺参数的测试方法与评价准则。本报告系统阐述了该标准的立项背景、技术内容框架、产业需求及实施意义。标准计划于2026年9月1日实施，将为显示用黑色矩阵光刻胶的研发、生产、应用及质量管控提供统一的技术依据，对推动我国新型显示材料自主可控和产业高质量发展具有重要支撑作用。

关键词：黑色矩阵光刻胶；工艺性能；测试方法；显示面板；标准立项；光刻工艺；热固化；显影特性

Keywords:BlackMatrixPho