集成电路用高纯铜铝合金轧制工艺与织构演变研究.pdf

集成电路用高纯铜铝合金轧制工艺与织构演变研究.pdf

摘要

摘要

随着集成电路不断向大规模甚至超大规模发展,电子元器件尺寸越来越微

型化,芯片特征尺寸也逐渐缩小到深亚微米和纳米,这对集成电路互连用靶材

提出了更严格的要求。当前铝互联线已经很难满足集成电路的苛刻条件,而铜

及铜合金以低电阻率、高导电性和布线工艺步骤少等优点在大规模逻辑芯片应

用中逐渐表现出明显优势。高纯铜铝合金溅射靶材是目前半导体行业亟需的导

电互连材料,但现有制备工艺难以良好控制晶粒尺寸和织构取向的问题,极大

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档