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- 2026-11-13 发布于广东
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ISO9934-1磁化规范与磁场强度测定中文版切向磁场测量
一、磁通密度与切向磁场强度的关系
1.1磁通密度、切向磁场强度与相对磁导率的分工
1T与约2kA/m不是同一物理量的两种写法,前者是工件材料侧的磁通密度判据,后者是贴近表面测得的切向磁场强度典型值,二者由材料相对磁导率联系,不能互相替代。认为充分的表面磁通密度最小值为1T,对低碳钢与低合金钢通常需要约2kA/m的切向磁场强度;现场仪表可直接测得的是气隙中的切向场强,磁通密度则是材料对磁化场的响应结果。工艺文件若把两个数值并列写进同一栏而不注明物理归属,参数栏与判据栏会同时失去可复现性。
磁通密度B的单位为T,磁场强度H的单位为A/m或kA/m,二者由B=μ0μrH联系,μ0为真空磁导率,μr为材料相对磁导率。μr不是常数,随材料成分、热处理状态、温度以及H本身变化,磁化曲线呈明显非线性。因此在工件内部,同一H在不同材料上得到的B并不相同;要把B提升到1T,不同材料所需的H也不同。标准不给出唯一的H值,正是因为这一非线性关系无法用单一系数覆盖。
量
符号
常用单位
物理归属
现场可直接测量
磁通密度
B
T,mT
工件材料内部的磁化响应
否,须结合材料磁化曲线推断
切向磁场强度
H
kA/m,A/m
磁化源及贴近表面的气隙
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