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2026年口腔修复工艺（义齿抛光工艺）试题及答案

一、选择题（8题，每题3分，共24分）

1.在义齿抛光工艺中，以下哪种材料通常不用于抛光膏的配制？

A.硅石粉

B.滑石粉

C.氧化铝

D.金属羧酸盐

2.抛光过程中，以下哪种方法不属于机械抛光？

A.旋转抛光

B.振动抛光

C.化学抛光

D.磨料抛光

3.义齿抛光时，以下哪种工具通常不用于抛光？

A.抛光轮

B.抛光刷

C.抛光棒

D.磨光机

4.抛光膏的粘稠度通常通过以下哪种方法调整？

A.加水

B.加热

C.加入增稠剂

D.减少磨料含量

5.抛光过程中，以下哪种现象表明抛光效果不佳？

A.义齿表面光滑

B.义齿表面有划痕

C.抛光膏容易脱落

D.义齿表面无光泽

6.抛光过程中，以下哪种气体通常不用于干燥义齿？

A.氮气

B.氧气

C.空气

D.氢气

7.抛光过程中，以下哪种操作可能导致义齿表面过度磨损？

A.适当的压力

B.过度用力

C.适当的速度

D.使用合适的抛光膏

8.抛光过程中，以下哪种情况表明抛光膏需要更换？

A.抛光膏颜色变深

B.抛光膏粘稠度增加

C.抛光膏失去光泽

D.抛光膏易于清洗

二、（一）多项选择题（6题，每题4分，共24分）

1.以下哪些材料可以用于配制抛光膏？

A.硅石粉

B.滑石粉

C.氧化铝

D.金属羧酸盐