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光刻设备考试题及答案

一、单项选择题（每题2分，共30分）

1.目前主流深紫外（DUV）浸没式光刻设备使用的曝光光源波长是？

A.436nm

B.365nm

C.248nm

D.193nm

2.光刻设备中，决定曝光分辨率最核心的光学部件是？

A.照明系统

B.投影物镜

C.工件台

D.对准系统

3.根据瑞利分辨率公式，下列哪种方式不能提升光刻分辨率？

A.缩短曝光波长

B.增大投影物镜数值孔径

C.减小工艺因子k

D.增大曝光剂量

4.光刻设备中，用于承载硅片并实现高精度定位与扫描运动的核心部件是？

A.掩模台

B.工件台

C.调焦调平模块

D.对准模块

5.主流投影式光学光刻设备的对准系统通常不采用以下哪种原理？

A.激光干涉测距

B.标记图像识别

C.电容传感定位

D.电子束扫描成像

6.浸没式光刻设备是在投影物镜与硅片之间填充以下哪种介质来提升数值孔径？

A.高纯度去离子水

B.光刻胶

C.特种光学油

D.氮气

7.光刻设备日常维护中，属于定期更换消耗品的是？

A.投影物镜镜片

B.空气过滤芯

C.掩模台基座

D.激光干涉仪

8.EUV光刻设备使用的曝光光源波长约为？

A.193nm

B.157nm

C.13.5nm

D.1.35nm

9.光刻工艺中，焦深（DOF）与