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三、工艺流程的组织 1、确定合成路线 常压设备 （P≤0.07MPa） 低压设备（代号L） （0.1MPa≤P1.6Mpa） 中压设备（代号M） （1.6MPa≤P10Mpa） 高压设备（代号H） （10MPa≤P100Mpa） 超高压设备（代号U）（P≥100Mpa） 间歇与连续反应的区别 间歇操作：反应物料一次性加入、一次性卸出，反应器 内物系的组成仅随时间而变化，属非稳态过程。 适于多品种、小批量、反应速率较慢的反应过程。 连续操作：原料连续流入反应器，反应产物则连续从反 应器流出。反应器内任何部位的物系组成均不 随时间变化，属稳态操作。适于大批量生产。 半间歇半连续操作：指原料与产物只有其中一种为连续 输入或输出，而其余则为分批加入或输出的操 作，同时兼有间歇操作和连续操作某些特点。 上页 下页 总目录 1.1 1.2 1.3 * 返回 常用溶剂的介电常数 上页 下页 总目录 1.1 1.2 1.3 * 返回 如氯化钠水溶液中，Na+和Cl-的溶剂化 上页 下页 总目录 1.1 1.2 1.3 * 返回 离子原 溶剂化 溶剂化 离子化 离子体 溶剂化的离子对 （缔合离子） 溶剂化正离子 溶剂化负离子 溶剂化的独立离子